國瑞熱控光刻膠烘烤加熱盤以微米級溫控精度支撐光刻工藝，采用鋁合金基體與陶瓷覆層復合結構，表面粗糙度Ra小于0.1μm，減少光刻膠涂布缺陷！加熱面劃分6個**溫控區域，通過仿真優化的加熱元件布局，使溫度均勻性達±0.5℃，避免烘烤過程中因溫度差異導致的光刻膠膜厚不均！溫度調節范圍覆蓋60℃至150℃，升溫速率10℃/分鐘，搭配無接觸紅外測溫系統，實時監測晶圓表面溫度并動態調節！設備兼容6英寸至12英寸光刻機配套需求，與ASML、尼康等設備的制程參數匹配，為光刻膠的軟烘、堅膜等關鍵步驟提供穩定溫控環境！低熱容設計，升溫降溫迅捷，適合快速變溫工藝。長寧區陶瓷加熱盤非標定制

為解決加熱盤長期使用后的溫度漂移問題，國瑞熱控開發**校準模塊，成為半導體生產線的精度保障利器！模塊采用鉑電阻與熱電偶雙傳感設計，測溫精度達±0.05℃，可覆蓋室溫至800℃全溫度范圍，適配不同材質加熱盤的校準需求！配備便攜式數據采集終端，支持實時顯示溫度分布曲線與偏差分析，數據可通過USB導出形成校準報告！校準過程無需拆卸加熱盤，通過磁吸式貼合加熱面即可完成檢測，單臺設備校準時間縮短至30分鐘以內！適配國瑞全系列半導體加熱盤，同時兼容Kyocera、CoorsTek等國際品牌產品，幫助企業建立完善的溫度校準體系，確保工藝參數的一致性與可追溯性！河北晶圓加熱盤定制持續改進服務理念，聽取客戶反饋，不斷提升產品性能。

國瑞熱控推出半導體加熱盤專項維修服務，針對加熱元件老化、溫度均勻性下降等常見問題提供系統解決方案！服務流程涵蓋外觀檢測、絕緣性能測試、溫度場掃描等12項檢測項目，精細定位故障點！采用原廠匹配的氮化鋁陶瓷基材與加熱元件，維修后的加熱盤溫度均勻性恢復至±1℃以內，使用壽命延長至新設備的80%以上！配備專業維修團隊，可提供上門服務與設備現場調試，單臺維修周期控制在7個工作日以內，大幅縮短生產線停機時間！建立維修檔案與質保體系，維修后提供6個月質量保障，為企業降低設備更新成本，提升資產利用率！

針對原子層沉積工藝對溫度的嚴苛要求，國瑞熱控ALD**加熱盤采用多分區溫控設計，通過仿真優化加熱絲布局，確保表面溫度分布均勻性符合精密制程標準！設備溫度調節范圍覆蓋室溫至600℃，升溫速率可達25℃/分鐘，搭配鉑電阻傳感器實現±0.1℃的控溫精度，滿足ALD工藝中前驅體吸附與反應的溫度窗口需求！采用氮化鋁陶瓷基底與密封結構，在真空環境下無揮發性物質釋放，且能抵御反應腔體內腐蝕性氣體侵蝕！適配8英寸至12英寸晶圓規格，通過標準化接口與拓荊、中微等廠商的ALD設備無縫兼容，為原子層沉積的高保形性薄膜制備提供保障！靈活功率配置可選，滿足不同溫度需求，應用范圍廣泛多樣。

國瑞熱控清洗槽**加熱盤以全密封結構設計適配高潔凈需求，采用316L不銹鋼經電解拋光處理，表面粗糙度Ra小于0.05μm，無顆粒脫落風險！加熱元件采用氟塑料密封封裝，與清洗液完全隔離，耐受酸堿濃度達90%的腐蝕環境，電氣強度達2000V/1min！通過底部波浪形加熱面設計，使槽內溶液形成自然對流，溫度均勻性達±0.8℃，溫度調節范圍25℃-120℃！配備防干燒與泄漏檢測系統，與盛美上海等清洗設備廠商適配，符合半導體制造Class1潔凈標準，為晶圓清洗后的表面質量提供保障！專業團隊技術支持，從選型到安裝全程指導，解決您的后顧之憂。靜安區探針測試加熱盤廠家

設計生產精益求精，溫度一致性優，動態響應能力出色。長寧區陶瓷加熱盤非標定制

面向半導體實驗室研發場景，國瑞熱控小型加熱盤以高精度與靈活性成為科研得力助手。產品尺寸可定制至 10cm×10cm，適配小規格晶圓與實驗樣本的加熱需求，溫度調節范圍覆蓋室溫至 500℃，**小調節精度達 1℃。采用陶瓷加熱元件與鉑電阻傳感器組合，控溫穩定性達 ±0.5℃，滿足材料研發中對溫度參數的精細控制。設備支持 USB 數據導出功能，可實時記錄溫度變化曲線，便于實驗數據追溯與分析。整體采用便攜式設計，重量* 1.5kg，且具備過熱保護功能，當溫度超過設定閾值時自動斷電，為半導體新材料研發、工藝參數優化等實驗工作提供可靠溫控工具。長寧區陶瓷加熱盤非標定制

無錫市國瑞熱控科技有限公司匯集了大量的優秀人才，集企業奇思，創經濟奇跡，一群有夢想有朝氣的團隊不斷在前進的道路上開創新天地，繪畫新藍圖，在江蘇省等地區的電工電氣中始終保持良好的信譽，信奉著“爭取每一個客戶不容易，失去每一個用戶很簡單”的理念，市場是企業的方向，質量是企業的生命，在公司有效方針的領導下，全體上下，團結一致，共同進退，**協力把各方面工作做得更好，努力開創工作的新局面，公司的新高度，未來無錫市國瑞熱控科技供應和您一起奔向更美好的未來，即使現在有一點小小的成績，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結經驗，才能繼續上路，讓我們一起點燃新的希望，放飛新的夢想！